Двойное назначение: стирка и лечение

Поддерживает промывку и отверждение моделей, большую производительность с меньшими усилиями

Универсальный режим стирки

Широкий спектр методов очистки, совместимых с большинством платформ фотонной печати, нет необходимости снимать отпечаток с платформы для очистки отпечатка.

Закрытая мойка

Предотвращает разбрызгивание чистящего средства, большую безопасность и защиту.

Апгрейд бусин УФ лампы

Линзы добавляются к УФ-ламповым бусинам, поэтому распределение УФ-света более равномерное, поверхность модели будет затвердевать более плавно.

Вращающаяся платформа отверждения

Платформа поворачивается на 360 °, чтобы обеспечить равномерное и полное отверждение. Добавив отражатель, можно вылечить верхнюю часть модели.

Пользовательские настройки более лаконичны

Время можно регулировать: 1-60 минут

Верхняя крышка с УФ-блокировкой

С прозрачной крышкой, Блокирующей 99,95% ультрафиолетового света.

После быть помытым и вылеченным

Мойка и отверждение могут улучшить характеристики материалов